JIS K0146-2002 表面化学分析.溅镀深度造型.利用分层系统作为标准物质的优选法

作者:标准资料网时间:2024-05-20 02:00:58 浏览:9574 来源:标准资料网

【英文标准名称】:Surfacechemicalanalysis--Sputterdepthprofiling--Optimizationusinglayeredsystemsasreferencematerials
【原文标准名称】:表面化学分析.溅镀深度造型.利用分层系统作为标准物质的优选法
【标准号】:JISK0146-2002
【标准状态】:现行
【国别】:日本
【发布日期】:2002-03-20
【实施或试行日期】:
【发布单位】:日本工业标准调查会(JP-JISC)
【起草单位】:TechnicalCommitteeonBasicEngineering
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:
【英文主题词】:
【摘要】:この規格は,オージェ電子分光法,X線光電子分光法及びニ次イオン質量分析法における測定条件の関数として最適な深さ分解能を得るために,適切な単層及び多層構造系標準物質を用いるスパばッター深さ方向分析パラメータの最適化手順について規定する。この規格は,特殊な多層構造系,例えば,デルタドープ層の使用を取り上げない。
【中国标准分类号】:G04
【国际标准分类号】:71_040_50
【页数】:20P;A4
【正文语种】:日语

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